Descriere
După turnarea rășinii epoxidice în matrița de silicon, lăsați-o să se odihnească timp de 5-10 minute până când unele bule se ridică. Pulverizați subțire și uniform pe suprafața rășinii. Pulverizati de la o distanta de aproximativ 15-20 cm. Bulele se ridică la suprafață continuu, așa că puteți repeta pulverizarea de mai multe ori. Repetați la fiecare 10-15 minute pentru a da timp substanței să se evapore. Nu afectează proprietățile chimice ale epoxidice.
